扩散炉是做什么用的，你认识扩散炉吗？

近年来，我国扩散设备的升级换代发展迅速，技术进步速度前所未有。在技术不断发展的今天，你知道扩散炉是做什么用的吗？你认识扩散炉吗？

1.扩散炉的用途是什么？

它是半导体生产线预处理的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光纤等行业的扩散、氧化、退火、合金和烧结工艺。

2.使用了哪些工艺？

采用扩散法和氧化法。

扩散工艺的主要目的是在高温条件下对半导体晶片进行掺杂，即元素磷和硼，使其扩散到硅晶片中，从而改变和控制半导体中杂质的类型、浓度和分布，从而建立不同的电特性区。最新的低压磷扩散采用低压氛围，以获得更好的阻块均匀性和更大的生产批量，同时对环境的影响最小。

氧化过程是使硅表面在高温下与氧化剂反应，形成一层二氧化硅膜。氧化方法包括干氧和湿氧，湿氧包括水蒸气氧化和氢氧合成。

3.扩散炉的类型有哪些？

有两种类型：垂直扩散炉和水平扩散炉。

垂直扩散炉是垂直于水平面的石英舟，更有利于硅片的机械转移，晶片中工艺参数的一致性更好。

水平扩散炉是平行于水平面的石英舟。一个可以具有4个或更多个工艺炉管。平均炉管面积较小，板间工艺参数优于垂直扩散炉。

虽然近年来我国的技术进步速度前所未有，但总的来说，先进与落后并存，总体技术水平与国际先进水平还存在一定差距，特别是在设备自动化和局部细节方面。然而，凭借国内扩散设备可靠性好、技术先进、性价比高的优势，实力雄厚的国内设备研发企业的扩散设备已出口，深受东南亚和欧美客户的青睐。一旦技术服务网建立，预计批量出口不成问题。