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扩散炉

程控扩散炉

程控扩散炉
产品详情:

一.设备概述:  程控扩散炉采用仪表程序升温控方式操作,该设备用于半导体等行业的3-4英寸工艺硅片扩散、氧化、退火、合金等工艺。 
 
 二.设备类型:

方式:

手动操作方式,小工作台面

可配工艺管数量:

1-4管系统

净化台洁净度:

1000级(10000级厂房)

气体流量控制:

均用进口浮子流量计控制

送取片方式:

手动推拉

使用类型:

3-4寸炉管

三.设备主要参数:

工作温度:

300~1290℃

炉管有效口径:

¢150-190mm

总功率:

15-24KVA/管  保温功率:6-10KVA/管

三相五线制:

380V±10%,50Hz±10%,次级线不小于35平方高温线

报警:

具有超温报警,断偶报警,气体互锁等功能

恒温区长度及段数:

400-1100mm(3-5段控温)

控温精度:

±0.5℃(≧1000℃)

单点温度稳定性:

±1℃/72h

控温方式:

高精度仪表程序控制

热偶类型:

热电偶采用K/S/R型,每管Spike 4-6支热偶

最大可控升温范围:

(500~1285℃)0--15℃/min

最大可控降温范围:

(500~1285℃)0--10℃/min

设备总外形尺寸:

根据设备配置不同,尺寸有所不同

四.主要构成:

1、

设备主机

2、

加热系统

3、

排风冷却系统

4、

排毒箱(和设备主机做为一体)

5、

控制系统

  1. 设备主要特点和优势

 1★程序可以实现手/自动工作,在停电或中途停机后,再次启动可以根据工艺手动升温,节省工艺时间; 
 2★冷端采用PT100检测环境温度进行温度补偿,避免环境温度变化,对炉膛温度产生影响,避免层间干扰; 
 3★气体流量控制精确,采用浮子流量计控制; 
 4★具有多种报警功能及安全保护功能;
5★恒温区手动调整,可准确控制反应管的实际工艺温度;

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