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扩散炉
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全自动扩散炉

Abstract: 全自动扩散炉
产品详情:

功能特点: 
扩散炉应用于半导体器件、分立器件、光电子器件、电力电子器件、及大规模集成电路制造等领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。
★全中文windows操作界面,可编辑参数,操作方便。 
★可保存多条工艺曲线,每条曲线可设置多步。
★工艺曲线的自动运行控制功能。   
★自动运行中可暂停/继续运行功能。
★工艺中可强制跳到下一个工艺步运行功能。   
★智能升降温斜率制功能。
★PID参数自整定功能。   
★系统故障的检测与报警功能。
★智能悬臂推拉舟控制功能。  
★停电后断点继续运行功能。
★工艺气体的程序控制功能(电磁阀/质量流量控制器)。
★可根据用户的特殊要求增减或开发相应的功能。

主要技术指标:

★炉管内径:¢90~¢300(2英寸~8英寸)   
★恒温区长度及精度:≤1250mm±0.5(300℃~1290℃)
★控温仪表:进口高精度控温仪  
★气源路数:主管道1~4路  
★气体种类:N2、H2、O2、HCL等
★气源控制:MFC或浮子流量计 
★推拉舟行程:最大2000mm
★推拉舟速度范围及精度:(20~1000)±2mm/min   
★推拉舟方式:简易式、悬臂式、SiC硅桨式
★冷却方式:水冷+风冷   
★工控机:工控机控制
设备特性
具有多条工艺曲线,调用方便快捷;运行中,具有停电记忆功能触摸微机界面,操作方便;具有超温保护功能 。

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