现在联系立式扩散炉本设备主要应用于集成电路、分立器件、电力电子硅片扩散、烧结、以及热处理退火等工艺操作。 立式、环壁加热，钟罩升降式，丝杠自动上下升降送料。功能特点： ★全英文windows操作界面，可编辑参数，操作方便。 ★可保存多条工艺曲线，每条曲线可设置多步。 ★工艺曲线的自动运行控制功能。

现在联系扩散炉炉体产品说明：★优质加热丝：KANTHAL‘APM A-1 AF D及HRE… ★绝热材料：PMF T2 T3…晶体纤维等★绝缘子： 高纯刚玉 ★端口过渡环：氧化铝氧化锆等真空成型。★控温段：3段、5段、9段控温 用途：★半导体扩散炉烧结炉等 ★满足4"-8"圆晶扩散炉" ★完整的产

现在联系氢氧合成扩散炉一．设备概述： 本设备主要用于集成电路、电力电子等行业的关键电子专用设备，氢氧合成是将3-6英寸硅片放置于氧气或水蒸气的氛围中进行高温热处理，在硅片表面形成氧化膜的过程，氧化工艺是集成电路工艺中应用最广泛的基础工艺之一，氧化膜的用途广泛，可作为离子注入的阻挡层及注入穿透层（损伤缓

现在联系可控硅链式焊接炉主要用于半导体：二极管、整流桥、集成电路、电力电子器件等在氮气、或氢氮混合气体的保护下进行焊接、封装、退火烘干等工艺。及集成电路金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在氢氮保护下进行，运载能力大，并采用水、气电转换器控制传感报警及超温保护报警功能。YH-G系列链式炉设有

现在联系连续式高温钎焊炉用途:本设备在液氨分解炉制取氢气作保护气氛的情况下，使用铜、银作钎焊料连续钎焊铁基工件，不相干机油冷却器，铜基工件及不锈钢工件的淬火和光亮处理。

现在联系网带式高温钎焊炉经过半个多世纪的发展，第一代网带炉从氧化气氛下加热逐步发展到第二代保护气氛、少无氧化加热，又进步到第三代可控气氛加热，第四代计算机管理，在廿一世纪的今天，网带炉是如何发展的网带炉的特点?

现在联系真空管式炉主要用途：陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、特种材料、建材、高校、科研院所、工矿企业做粉末焙烧、陶瓷烧结、高温实验、材料处理、质高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。 主要功能和特点：1.设备的控制系统国际领先，具有安全可靠、操作简