真空管式炉实际应用操作说明

真空管式炉专门设计用于高温、中温、低温CVD工艺。如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，优质硅钼棒加热，优质99刚玉管炉膛，气体采用浮子流量计流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制，有效的实现温度的控制。设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。

真空管式炉各独立的加热区均配备有热电偶、数显式智能调节器(PID)和可控硅组成的闭环控制系统，可实现自动控温，操作起来也很方便。针对实验的使用要求，装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上，打开并取出炉管一端的密封端盖，放入带料盒的料盒支架，再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。然后通人工艺气氛，直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后，应继续通人小量的工艺气氛并进行降温，直到炉内温度低于工艺要求时，方可打开炉管密封端盖取出产品。

真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用。 真空管式炉的成套供应范围有温度控制器、热电偶、补偿导线等。温度控制有继电器控制、可控硅控制二种，由于是间歇式作业炉，一般都采用40段PlD高级可编程控制，能严格控制产品的烧制过程。可选择进口单设定点或40段可编程控制器。

真空管式炉安全功能包括可调过温保护及开门切断加热的安全锁系统。节能型的陶瓷纤维材料和双层外壳结构，具有升降温速度快，能耗低。可将外表温度降到常温并使得内腔温度分布均匀。高品质的加热元件，使用寿命长。 选配：带排气口和惰性气体通入口。40段可编程控制器型号可选择RS-485串口，实现计算机通讯。