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砷化镓设备

砷化镓VGF单晶炉

砷化镓VGF单晶炉
产品详情:

产品应用:主要用于2~6英寸锗单晶、砷化镓等化合物晶体的生长

产品特点: 

◆工业计算机控制系统(WINDOWS 系统界面,操作方便简洁) 

◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 

◆控温精度高,温区控温稳定性好 

◆具有断电报警、超温/欠温报警、极限超温报警等多种安全保护功能 

◆晶体生长均匀性好、重复性高

主要技术指标 

◆工作温度:600~1280℃

◆适应晶体尺寸:2~6英寸 

◆装料量:10Kg/炉 

◆加热控制:7段控制 

◆温区长度:800mm±0.5℃(1000~1280℃) 

◆最大升温速率:15℃/min

◆升降行程:900mm 

◆最小升降速率(VB):0.1mm/h

 配套设备:合成炉、铸锭炉、脱氧封管炉等

热门标签:砷化镓VGF单晶炉
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